十字支撑式双层真空承载盘
应用于 PECVD、刻蚀等半导体薄膜沉积真空设备，为晶圆载具、匀气模组提供中心十字支撑定位，双层环形盘中空立柱一体式结构，兼顾结构支撑与气体流通空间，可稳定承载腔体内部精密配件，保证腔体内高真空、气流均匀的工艺环境，适配芯片产线洁净化连续生产配套需求。
产品三大核心特点
1. 十字均衡支撑结构
四向对称十字筋一体成型，受力分散均匀，抗形变能力强，可稳定托举圆形匀气盘、晶圆组件，保证整机同轴装配精度，长期负压工况无偏移。
2. 中空流通洁净设计
双层环形盘搭配中心中空立柱，预留充足气流通道，无积尘死角；整体全流程去毛刺钝化处理，无金属碎屑，满足半导体高洁净车间使用标准。
3. 多层阵列高精度装配孔
外环、十字臂、中心底座分层排布标准化安装孔，孔距、同轴度公差精密可控，可快速匹配环形压环、承压端板等腔体配件，设备适配通用性广。
